Sostituire OLED di COG LCD per orologio 0,96 pollici

Le caratteristiche della visualizzazione del cristallo liquido TFT hanno principalmente le caratteristiche di ampia area, elevata integrazione, forte funzione, a basso costo, tecnologia flessibile e ampi campi di applicazione.

Di seguito introdurremo in dettaglio le varie caratteristiche dello schermo LCD TFT:

(1) Ampia area: la prima generazione del substrato di vetro di grande area (300 mmx400mm) è stata prodotta la linea di produzione dello schermo TFT nei primi anni '90. Nella prima metà del 2000, l'area del substrato di vetro è stata ampliata a 680mmx880mm. Recentemente, il substrato di vetro di 950mmx1200mm è stato anche messo in funzione Transistor a pellicola sottile .

(2) Alta integrazione: il chip di visualizzazione TFT da 1,3 pollici utilizzato per la proiezione di cristalli liquidi ha una risoluzione di XGA e contiene milioni di pixel. Lo spessore del film dell'array di display di cristalli liquidi TFT da 16,1 pollici con risoluzione SXGA (1280x1024) e il silicio amorfo è solo 50 nanometri. Il livello di integrazione delle tecnologie di Tabonglas e Systemonglass, i requisiti delle attrezzature e della tecnologia di alimentazione e la difficoltà tecnica superano quelli del tradizionale modulo LCD TFT LSI .

(3) Funzione potente: lo schermo LCD TFT è stato originariamente utilizzato come circuito di indirizzamento della matrice per migliorare le caratteristiche della valvola della luce del cristallo liquido. Per i display ad alta risoluzione, il controllo corretto dell'elemento oggetto viene ottenuto attraverso la regolazione della tensione nell'intervallo di 0-6V (il valore tipico è 0,2 ~ 4 V) e lo schermo LCD può raggiungere TFT di alta risoluzione di alta qualità Display LCD .

(4) a basso costo: substrati di vetro e substrati di plastica risolvono fondamentalmente il problema dei costi dei circuiti integrati a semiconduttore su larga scala, aprendo un ampio spazio di applicazione per l'applicazione di circuiti integrati a semiconduttore su larga scala.

(5) Flessibilità del processo: oltre allo sputtering, CVD (deposizione di vapore chimico) MCVD (deposizione di vapore chimico molecolare) e altri processi tradizionali per la formazione di film, la tecnologia di ricottura laser può anche usare film amorfo, film multi-produ il film . Può essere usato come film di silicio, così come un altro gruppo I-VI e film a semiconduttore a quattro V.

(6) Campi di applicazione ampi. La visualizzazione del cristallo liquido LCD basato sulla tecnologia TFT è l'industria dei pilastri della società dell'informazione e può anche essere applicata al display a pannello piatto a transistor a transistor a transistor a trasporto in rapido sviluppo.